GR2 GR5 বিশুদ্ধ টাইটানিয়াম টার্গেট লেপ শিল্প টাইটানিয়াম খাদ Ti6Al4V

 উচ্চ মানের টাইটানিয়াম লক্ষ্য GR2 GR5 টাইটানিয়াম খাদ Ti6Al4V

"টাইটানিয়াম স্পাটারিং টার্গেট"-এ "টার্গেট" শব্দটি আমাদের দৈনন্দিন জীবনের সাধারণ লক্ষ্য উপকরণ থেকে এসেছে।স্পুটারিং ডিপোজিশন প্রক্রিয়ায়, লেপ উপাদান ইলেক্ট্রন রশ্মি বা আয়ন রশ্মি দ্বারা বোমাবর্ষিত হয়, ঠিক যেমন লক্ষ্যে আঘাত করা হয়, তাই স্পাটারিং প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত উপাদানটিকে "স্পটারিং টার্গেট" বলা হয়।

ধাতব টাইটানিয়াম থেকে টাইটানিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্য পর্যন্ত

টাইটানিয়াম স্পটারিং টার্গেট হল একটি টাইটানিয়াম পণ্য যা কাঁচামাল হিসাবে টাইটানিয়াম ধাতু দিয়ে তৈরি, যা স্পাটারিং দ্বারা টাইটানিয়াম ফিল্ম তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।সংক্ষেপে, ধাতব টাইটানিয়াম ঢালাই পদ্ধতি এবং পাউডার ধাতুবিদ্যা পদ্ধতির সাথে টাইটানিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্য তৈরির দুটি পদ্ধতি রয়েছে।

কাস্টিং: একটি নির্দিষ্ট অনুপাতের সাথে কাঁচামাল গলিয়ে নিন, ছাঁচের মধ্যে খাদ দ্রবণ ঢেলে ইনগট তৈরি করুন এবং অবশেষে সেগুলিকে স্পুটারিং লক্ষ্যে মেশিন করুন।পদ্ধতিটি ভ্যাকুয়ামে গলে যাওয়া এবং ঢালাই করা।

পাউডার ধাতুবিদ্যা: একটি নির্দিষ্ট অনুপাতের সাথে কাঁচামাল গলিয়ে, সেগুলোকে পিষে ফেলুন, আইসোস্ট্যাটিক গুঁড়ো টিপুন, এবং তারপর লক্ষ্য তৈরি করতে উচ্চ তাপমাত্রায় সিন্টার করুন।

পণ্যের নাম: টাইটানিয়াম টার্গেট স্পুটারিং

উপাদান: বিশুদ্ধ টাইটানিয়াম: GR1 GR2

বিশুদ্ধতা >= 99.6%

অ্যাপ্লিকেশন: হার্ডওয়্যার, প্রসাধন, সরঞ্জাম, সিরামিক, গল্ফ এবং অন্যান্য আবরণ শিল্প।

মাত্রা:

রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 এবং অন্যান্য নির্দিষ্ট মাপ।

টিউব স্পুটারিং টার্গেট: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm,Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, এবং অন্যান্য নির্দিষ্ট মাপ৷

প্লেট স্পুটারিং লক্ষ্য: T6-40×W60--800×L600--2000mm এবং অন্যান্য নির্দিষ্ট মাপ।

আমরা গ্রাহকের চাহিদা অনুযায়ী বিভিন্ন অনুপাতে খাদ লক্ষ্য কাস্টমাইজ করতে পারি

বিস্তারিত ছবি:

উপাদান:

1) Ti/Al অ্যালয় লক্ষ্য (67:33,50:50at%)

2) W/Ti খাদ লক্ষ্য (90:10wt%),

3) Ni/V খাদ লক্ষ্য (93:7, wt%)

4) Ni/Cr খাদ লক্ষ্য (80:20, 70:30, wt%),

5) Al/Cr খাদ লক্ষ্য (70:30,50:50at%)

6) Nb/Zr খাদ লক্ষ্য (97:3,90:10wt%)

7) Si/Al খাদ লক্ষ্য (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

8) Zn/আল খাদ লক্ষ্য

9) উচ্চ বিশুদ্ধতা ক্রোমিয়াম লক্ষ্য (99.95%, 99.995%)

10) Al/Cr খাদ লক্ষ্য (70:30, 50:50, 67:33,% এ)

11) Ni/Cu খাদ লক্ষ্য (70:30, 80:20, wt%)

12) Al/Nd খাদ লক্ষ্য (98:2wt%)

13) Mo/Nb খাদ লক্ষ্য (90:10, wt%)

14) TiAlSi খাদ লক্ষ্য (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% এবং% এ)

15) CrAlSi খাদ লক্ষ্য (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% এবং% এ)